• 首  页
  • 人员构成
  • 研究方向
  • 科研进展
  • 实验设备
  • 最新动态
  • 联系我们
  • English

首页>> news>> 2023年6月组内文献阅读汇报



基于双通道连续域束缚态的有效空间光调制器操纵


基于二阶非线性电光材料的电调空间光调制器在高灵敏度快速光电调控器件领域具有重要的应用价值。然而,由于在主动非线性材料之外存在较大的光场损耗,以及金属电极处存在不可避免的欧姆损耗,使得制备快速高灵敏度的空间光调制器存在一定挑战。近来,西湖大学的Xinyu Sun等人设计了一种基于金电极-电光材料-金超表面的BIC体系,在通信波段实现了较快速高灵敏度的空间光调制器。底层金超表面形成的对称性保护BIC与法布里珀罗腔BIC相结合,使光场几乎局域在电光材料内部。此外,他们通过寻找完美吸收点的设计思路,找到了最高灵敏度的设计参数。测试得到调制深度可达77%,在3dB下调制频率高达100MHz。这在高灵敏度开关和虚拟现实等领域具有重要的参考价值。

Nano Lett. 2022, 22, 24, 9982;https://doi.org/10.1021/acs.nanolett.2c03539



报告人:李慰


Highly reproducible van der Waals integration of two-dimensional electronics on the wafer scale


传统光刻工艺会在二维材料上面引入残留,直接金属化工艺会对二维半导体造成不可控的损伤,如缺陷、金属扩散和化学键合。范德华集成可以在二维半导体上实现近乎理想的金属-半导体接触。但是目前范德华集成技术在电极拾取和转移的过程中很容易变形,导致电极褶皱,无法实现大规模转移和高精度对准的要求。 湖南大学段曦东教授、刘渊教授(共同通讯作者)等在Nature Nanotechnology展示了新一代的大面积范德华集成工艺,实现高重现性、高性能单层MoS2晶体管和逻辑电路的晶圆级制造。用改进的石英/PDMS混合印章来使PDMS对金属电极阵列施加均匀作用力,确保了电极在拾起/释放过程中受力均匀,避免了电极容易出现褶皱的问题,从而可以实现晶圆级金属电极的拾取、对准和批量集成。规模化的范德华集成工艺允许在晶圆规模的单层MoS2上进行无损伤地异质集成,并实现高重现性、高性能的二维晶体管。这种大面积范德华集成方法可促进二维半导体与成熟工业技术的融合,推动二维半导体电子器件的应用。

Nat. Nanotechnol. 18, 471–478 (2023)



报告人:白庆虎


Synthesis of Ultrahigh-Quality Monolayer Molybdenum Disulfide through In Situ Defect Healing with Thiol Molecules


化学气相沉积(CVD)是一种很有前途的方法来合成这些材料。然而,CVD生长的材料通常比机械剥离的材料质量更差,并且包含更多的缺陷。由于在使用固体前体的情况下,很难在生长过程中控制前体的分布和浓度。在这里,作者将硫醇作为液体前驱体用于CVD生长高质量和均匀的二维MoS2。原子分辨率结构表征表明,在所有报道的CVD样品中,硫醇生长的MoS2的硫空位浓度是最低的。低温光谱表征进一步揭示了所生长的MoS2的超高光学质量。密度函数理论模拟表明,硫醇分子可以与MoS2中的硫空位相互作用,并在MoS2的生长过程中修复这些缺陷,从而获得高质量的MoS2。该工作为具有超低硫空位和高光学质量的二维材料的生长提供了一种便捷和可控的方法,这将有利于其光电应用。

Small 2020, 16, 2003357



报告人:张天天


Polarization-Insensitive Metalenses at Visible Wavelengths


文章展示了在红色、绿色和蓝色波长(λ = 660、532 和 405 nm)下的高效偏振不敏感平面透镜(超透镜),实现了数值孔径 (NA) 为 0.85 和 0.6 的超透镜,相应的效率高达 60% 和 90%。这些超透镜厚度小于 600 nm,可以将入射光聚焦到小至 0.64λ 的衍射极限点,并提供高分辨率成像。此外,焦点非常对称,具有高斯特列尔比。单步光刻和与大规模制造工艺的兼容性使超透镜在成像和光谱学中的广泛应用极具前景。

Nano Lett. 2016, 16, 7229−7234


版权所有 ©  2019- 2021 中国科学院物理研究所 纳米物理与纳米器件实验室 N10 课题组 电话:010 82648197