等离子体刻蚀与沉积系统

厂家： 沈阳科学仪器研制中心有限公司
技术指标:
       极限真空：5E-4Pa
       配备工艺气体：CH4，H2，Ar
       样品台直径：134 mm，转速1-10转/分，上下行程90 mm
       功率：10 kW，最大电流：200 A.
主要功能及应用范围：
       主要用于制备碳基薄膜材料，包括金刚石薄膜、类金刚石薄膜等。