微波薄膜生长系统
型号： SDS5250S CVD System厂家：日本Seki Diamond Systems公司
技术指标:
微波源功率范围：600-5000 W
配备工艺气体：H2，CH4，O2
红外测温仪探测范围：475°C -1475 oC
偏压范围：0-600 V，0-1.7 A
工作气压：200 Torr
主要功能及应用范围：
微波等离子化学气相沉积通过等离子增加前驱体的反应速率，降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶，如大尺寸宝石级单晶钻石、高取向度金刚石晶体、纳米结晶金刚石和碳纳米管/类金刚石碳等。
