微波薄膜生长系统
型号: SDS5250S CVD System
厂家:日本Seki Diamond Systems公司
技术指标:
       微波源功率范围:600-5000 W
       配备工艺气体:H2,CH4,O2
       红外测温仪探测范围:475°C -1475 oC
       偏压范围:0-600 V,0-1.7 A
       工作气压:200 Torr
主要功能及应用范围
       微波等离子化学气相沉积通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶,如大尺寸宝石级单晶钻石、高取向度金刚石晶体、纳米结晶金刚石和碳纳米管/类金刚石碳等。