超高真空离子束激光脉冲沉积系统
型号: Peva-600E
厂家: 台湾凯柏
技术指标:
       极限真空:5E-10Torr
       配备工艺气体:Ar,N2,O2.
       衬底温度最高加热:750oC
       激光波长:248nm
       操作控制:配备软件操作系统,可编制沉积程序,并可选择进行手动和自动制程
主要功能及应用范围:
       本设备包括磁控溅射沉积、离子束溅射沉积、脉冲激光沉积,以及离子束辅助溅射等功能。
1) 磁控溅射包括直流和射频磁控溅射,共四支磁控枪,可用于金属、氧化物等材料的沉积;
2) 离子束溅射是利用较高能量Ar离子轰击靶材表面,使靶原子脱离靶材表面并沉积到衬底上,可用于金属、氧化物等材料的沉积;
3) 脉冲激光沉积是将高功率的脉冲激光聚焦到靶材表面,使局部产生高温高压等离子体,等离子体发生定向膨胀并沉积在衬底上成膜,其特点是薄膜的化学计量比准确,材料多样,沉积温度低等;
4) 离子束辅助溅射可以利用垂直于衬底方向的Ar离子轰击,实现衬底表面清洁、提高成膜质量、降低颗粒度等功能。