等离子体刻蚀与沉积系统
厂家: 沈阳科学仪器研制中心有限公司
技术指标:
       极限真空:5E-4Pa
       配备工艺气体:CH4,H2,Ar
       样品台直径:134 mm,转速1-10转/分,上下行程90 mm
       功率:10 kW,最大电流:200 A.
主要功能及应用范围:
       主要用于制备碳基薄膜材料,包括金刚石薄膜、类金刚石薄膜等。